在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，確保晶圓處理過程中介質(zhì)流量和壓力的精準(zhǔn)控制對于產(chǎn)品質(zhì)量至關(guān)重要。流量的波動(dòng)，通常由出口的開關(guān)操作引起，可能會(huì)對晶圓的質(zhì)量造成不利影響。在這一背景下，背壓控制技術(shù)發(fā)揮著至關(guān)重要的作用，它能夠保證在各個(gè)出口獨(dú)立控制的情況下，管線中的流量與壓力依然保持恒定。

以化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）漿料應(yīng)用為例：

這一步驟對于晶圓的拋光至關(guān)重要。通過精確控制漿料的供應(yīng)量，可以優(yōu)化材料的去除過程。背壓控制確保了流量的穩(wěn)定性，從而保障了CMP過程的均勻性和效率，這對于提升晶圓加工質(zhì)量和最終產(chǎn)品性能具有決定性意義。

蓋米推出GEMü C53 iComLine電動(dòng)控制閥，憑借其精確的控制精度和靈活的控制特性，成為實(shí)現(xiàn)背壓控制的理想選擇。